志圣科技（深圳）有限公司在光学设备领域深耕多年，曝光机产品线覆盖从实验室研发到量产的全场景需求。目前主推的三大系列——UV-LED曝光机、接近式/接触式曝光机与激光直写曝光机，在分辨率、产能和对位精度上各有侧重。以下从核心参数入手做横向比对。

关键参数对比：三大系列怎么选

以典型机型为例：UV-LED系列曝光均匀度可达±3%以内，适合PCB阻焊与线路层量产；接近式机型解析度稳定在3μm~5μm，对位精度±1.5μm，兼容4~8英寸晶圆；激光直写系列无需掩模版，最小线宽可达1μm，更适合小批量、多品种的精密设备加工场景。

• UV-LED系列：产能约120~180片/小时（6英寸），能耗较传统汞灯降低约60%
• 接近式/接触式：支持365nm、405nm双波长，套刻精度≤±0.5μm
• 激光直写：扫描速度最高800mm/s，灰度曝光层数可达256级

选型注意事项

实际选型不能只看分辨率数字。例如接触式曝光虽精度高，但掩模版损耗需计入成本；激光直写在厚胶（>50μm）场景下效率会明显下降。建议先明确线宽要求、基板尺寸、日均产能三个硬指标，再匹配机型。志圣科技（深圳）有限公司的设备技术研发团队可提供打样验证，避免参数误判。

常见问题

Q：UV-LED与汞灯机型能否共线？
可以，但需重新校准光强分布，建议由原厂工程师完成。

Q：对位精度受哪些因素影响？
基板翘曲、标记对比度、镜头温漂是三大主因，恒温环境下重复精度更稳定。

从自动化设备集成角度看，志圣曝光机均预留SECS/GEM接口，可无缝对接涂胶显影线与AOI检测站。精密设备的长期稳定性，最终取决于光路设计、温控策略与运动平台的协同调校——这也是我们持续投入研发的方向。