在PCB曝光、半导体光刻等精密制程中，曝光机的光学系统稳定性直接决定线路解析度与良率。志圣科技（深圳）有限公司：曝光机，光学设备，自动化设备，精密设备，设备技术研发——我们结合多年设备维保数据，分享一套可落地的日常维保与故障诊断方案。

一、日常维保核心参数与步骤

建议每500小时或每月执行一次以下项目，环境温度控制在22±2℃，湿度45%-60%RH：

• 光学镜头：用无尘布蘸取异丙醇（IPA）沿单一方向擦拭，禁止打圈，避免镀膜损伤。
• 光源系统：记录汞灯或LED累计使用时长，光强衰减超过初始值15%即需更换。
• 运动平台：检查线性导轨润滑脂状态，补充专用锂基脂，重复定位精度应≤±1μm。

二、常见故障诊断速查

当出现曝光线条模糊或对位偏移时，按以下顺序排查：

1. 光源能量不足：用能量计检测工作台面光强，若低于设定值10%，先清洁反射罩再考虑换灯。
2. 对位偏差：检查CCD相机镜头是否积尘，重新标定Mark点坐标，误差大于3μm需校准平台。
3. 真空吸附异常：测量真空压力是否低于-80kPa，清洁吸孔并更换老化气管。

三、注意事项与总结

维保后务必执行空跑测试，确认无报警再投片。志圣科技（深圳）有限公司：曝光机，光学设备，自动化设备，精密设备，设备技术研发团队提醒：切勿使用普通酒精替代IPA，且拆装光学件需在Class 1000洁净环境下操作。

若故障反复出现，建议联系原厂进行光学系统深度校准——这比盲目更换零件更高效。